外资者提问：根据研报显示，贵司早已于今年通过实验者SiC二氧化硅基本概念设备，其水平气流新科技是参考意大利LPE的设备模仿结构设计。请问LPE对贵司的监管机构法院否将对贵司在半导体设备领域的盈